作者：深圳市jnh官网电气有限公司
时间：2023-01-06
磁控溅射镀膜技术相比其他的镀膜工艺，能获得更好的膜层组织，当然也离不开一款稳定性更高的，小编今天主要介绍磁控溅射镀膜工艺的流程和优势。
磁控溅射镀膜工艺首先安装工件，然后预抽真空到6Pa，然后开启扩散泵，本底真空度要到6*10-3，对工件进行烘烤加热，然后通入氩气，真空度要在2*10-1Pa~5*10-1 Pa。接通磁控溅射电源以后，靶电压控制在300V-600V，氩气被电离，产生阴极溅射作用，获得膜层粒子。如果通入反映气体就可以得到化合物膜，达到一定的厚度以后关闭溅射电源、偏压电源、氮气、氩气，当工件低于100度的时候才可以充入大气，取出工件。
磁控溅射可以镀各种膜层，当工件是玻璃、陶瓷时只需要烘烤加热，然后开启磁控溅射电源，进行阴极溅射镀膜，当工件为金属材料时，工件要接负偏压，溅射下来的原子在等离子体中被电离，得到的金属离子在负偏压的作用下到达工件，这个过程叫做磁控溅射离子镀过程。如果通入氩气获得的是纯金属膜，通入的反应气体获得是化合物膜，叫反应磁控溅射，所以用磁控溅射可以镀各种膜层。
磁控溅射镀膜是在辉光放电中等离子体中进行的，膜层粒子由氩离子从阴极靶材上溅射到的。阴极靶材没有熔池始终保持固态，阴极靶材的位置可以随意安放，可以水平安放也可以垂直安放，磁控溅射靶是个大面积镀膜源，镀膜均匀区大，不足就是平面靶材的利用率低，磁控溅射镀的膜层更加细腻，装饰效果更好。
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