直流偏压电源

单极性脉冲磁控溅射电源离子源中频磁控溅射电源直流磁控溅射电源脉冲电源脉冲偏压电源弧电源 HIPIMS电源直流偏压电源阳极电源

单极性脉冲磁控溅射电源

电弧反应灵敏,提高镀膜效率

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离子源电源

操作容易、制成的薄膜纯度高、质量好，厚度可较准确控制、成膜速率快，效率高；薄膜的生长机理比较简单

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正弦波中频磁控溅射电源

平衡靶材溅射速率，节省靶材成本，具备普通中频电源所有功能，镀膜质量及均匀性均有所上升。

方波中频磁控溅射电源

镀膜速度提升20%以上，可调方波，具备普通中频电源所有功能

中频磁控溅射电源

膜层致密、光洁度较好,增加离化率

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直流磁控溅射电源

 输出稳定，精度高，效率高

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PECVD电源

用于PECVD镀膜

离子加速电源

用于镀膜时的离子加速

离子渗电源

改善膜层质量，提高膜层均匀性

直流偏压电源

改善膜层质量，抑制工件表面异常放电

HIPIMS高功率脉冲磁控溅射电源

绕射性优异，抗腐蚀、耐磨损

单极性脉冲偏压电源

改善膜层质量，提高膜层均匀性

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直流偏压电源

改善膜层质量，抑制工件表面异常放电

单极性脉冲偏压电源

改善膜层质量，提高膜层均匀性

双极性脉冲偏压电源

改善膜层质量，提高膜层均匀性

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弧电源

无源触点引弧方式，电弧反应灵敏

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HIPIMS高功率脉冲磁控溅射电源

绕射性优异，抗腐蚀、耐磨损

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直流偏压电源

改善膜层质量，抑制工件表面异常放电

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阳极电源

辅助清洗工件，提高结合力

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1-10KW 20-60KW 60-120KW

阳极电源

辅助清洗工件，提高结合力

直流偏压电源

改善膜层质量，抑制工件表面异常放电

正弦波中频磁控溅射电源

平衡靶材溅射速率，节省靶材成本，具备普通中频电源所有功能，镀膜质量及均匀性均有所上升。

方波中频磁控溅射电源

镀膜速度提升20%以上，可调方波，具备普通中频电源所有功能

离子源电源

操作容易、制成的薄膜纯度高、质量好，厚度可较准确控制、成膜速率快，效率高；薄膜的生长机理比较简单

弧电源

无源触点引弧方式，电弧反应灵敏

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PECVD电源

用于PECVD镀膜

离子加速电源

用于镀膜时的离子加速

离子渗电源

改善膜层质量，提高膜层均匀性

阳极电源

辅助清洗工件，提高结合力

直流偏压电源

改善膜层质量，抑制工件表面异常放电

正弦波中频磁控溅射电源

平衡靶材溅射速率，节省靶材成本，具备普通中频电源所有功能，镀膜质量及均匀性均有所上升。

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PECVD电源

用于PECVD镀膜

离子加速电源

用于镀膜时的离子加速

离子渗电源

改善膜层质量，提高膜层均匀性

阳极电源

辅助清洗工件，提高结合力

正弦波中频磁控溅射电源

平衡靶材溅射速率，节省靶材成本，具备普通中频电源所有功能，镀膜质量及均匀性均有所上升。

方波中频磁控溅射电源

镀膜速度提升20%以上，可调方波，具备普通中频电源所有功能

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离子镀膜离子渗装饰镀膜工具镀膜蒸发镀膜连续线镀膜光学镀膜等离子抛光

阳极电源

辅助清洗工件，提高结合力

正弦波中频磁控溅射电源

平衡靶材溅射速率，节省靶材成本，具备普通中频电源所有功能，镀膜质量及均匀性均有所上升。

方波中频磁控溅射电源

镀膜速度提升20%以上，可调方波，具备普通中频电源所有功能

离子源电源

操作容易、制成的薄膜纯度高、质量好，厚度可较准确控制、成膜速率快，效率高；薄膜的生长机理比较简单

单极性脉冲磁控溅射电源

电弧反应灵敏,提高镀膜效率

中频磁控溅射电源

膜层致密、光洁度较好,增加离化率

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PECVD电源

用于PECVD镀膜

离子加速电源

用于镀膜时的离子加速

离子渗电源

改善膜层质量，提高膜层均匀性

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PECVD电源

用于PECVD镀膜

离子加速电源

用于镀膜时的离子加速

离子渗电源

改善膜层质量，提高膜层均匀性

直流偏压电源

改善膜层质量，抑制工件表面异常放电

正弦波中频磁控溅射电源

平衡靶材溅射速率，节省靶材成本，具备普通中频电源所有功能，镀膜质量及均匀性均有所上升。

方波中频磁控溅射电源

镀膜速度提升20%以上，可调方波，具备普通中频电源所有功能

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PECVD电源

用于PECVD镀膜

离子加速电源

用于镀膜时的离子加速

离子渗电源

改善膜层质量，提高膜层均匀性

直流偏压电源

改善膜层质量，抑制工件表面异常放电

正弦波中频磁控溅射电源

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方波中频磁控溅射电源

镀膜速度提升20%以上，可调方波，具备普通中频电源所有功能

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阳极电源

辅助清洗工件，提高结合力

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改善膜层质量，抑制工件表面异常放电

正弦波中频磁控溅射电源

平衡靶材溅射速率，节省靶材成本，具备普通中频电源所有功能，镀膜质量及均匀性均有所上升。

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镀膜速度提升20%以上，可调方波，具备普通中频电源所有功能

离子源电源

操作容易、制成的薄膜纯度高、质量好，厚度可较准确控制、成膜速率快，效率高；薄膜的生长机理比较简单

HIPIMS高功率脉冲磁控溅射电源

绕射性优异，抗腐蚀、耐磨损

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PECVD电源

用于PECVD镀膜

离子加速电源

用于镀膜时的离子加速

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改善膜层质量，提高膜层均匀性

阳极电源

辅助清洗工件，提高结合力

直流偏压电源

改善膜层质量，抑制工件表面异常放电

正弦波中频磁控溅射电源

平衡靶材溅射速率，节省靶材成本，具备普通中频电源所有功能，镀膜质量及均匀性均有所上升。

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用于PECVD镀膜

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用于镀膜时的离子加速

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改善膜层质量，提高膜层均匀性

阳极电源

辅助清洗工件，提高结合力

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改善膜层质量，抑制工件表面异常放电

正弦波中频磁控溅射电源

平衡靶材溅射速率，节省靶材成本，具备普通中频电源所有功能，镀膜质量及均匀性均有所上升。

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