作者：深圳市jnh官网电气有限公司
时间：2025-03-04
中频磁控溅射电源是一种用于磁控溅射镀膜技术的高性能电源设备，广泛应用于真空镀膜、光学镀膜、半导体制造等领域。其核心特点是采用中频磁控溅射电源（通常为40kHz）交流输出，能够有效抑制靶材弧光放电和表面中毒问题，适用于反应溅射和高质量薄膜的制备。以下是关于中频磁控溅射电源的详细介绍：
一、核心特点
电弧抑制：
中频磁控溅射电源使靶材在正负电压交替工作，减少电荷积累，有效抑制弧光放电，避免薄膜缺陷。
高质量镀膜：
适用于反应溅射（如氧化物、氮化物薄膜），能够提高膜层的均匀性和附着力。
高效节能：
采用IGBT高频开关技术，效率可达90%以上，比传统可控硅电源节能40%左右。
多种工作模式：
支持恒流、恒压、恒功率模式，满足不同工艺需求。
智能化操作：
配备触摸屏，光纤、RS485/RS232通讯接口，支持PLC和上位机控制，实现自动化生产。
参数项 | 典型值/范围 | 备注 |
输入电压 | AC380V±10%，50~60Hz | 三相四线制 |
输出功率 | 1KW-120KW | 可根据需求定制 |
输出频率 | 20-40kHz | 准正弦波/方波/正弦波输出 |
输出电压 | 100V-800V/1KV（工作电压），空载电压>1KV | 对称靶，适用于多种靶材，可根据需求定制 |
冷却方式 | 水冷+风冷 | 需配备冷却水塔或工业冷水机 |
调节精度 | ≤1% | 高精度控制 |
效率 | ≥90% | 高效节能 |
通讯接口 | RS485/RS232，光纤 | 支持远程监控和自动化控制 |
灭弧时间 | ≤3μs | 快速抑制电弧 |
二、应用领域
光学镀膜：
用于制备增透膜、反射膜、滤光膜等，如Low-E玻璃、光伏玻璃、建筑幕墙。
半导体制造：
沉积绝缘层、导电层及功能性薄膜等。
工具涂层：
镀制TiN、CrN、TiAlN等超硬涂层，提高工具耐磨性。
装饰镀膜：
用于手机壳、手表等3C表面装饰性镀膜。
三、选型建议
功率选择：
根据镀膜设备规模和工艺需求选择合适的功率范围（如1KW-120KW）。
控制方式：
如需自动化生产，优先选择支持光纤、RS485/PLC控制的型号。
冷却系统：
确保配备合适的水冷系统（水温≤25℃，水压≥0.2MPa）。
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