双极脉冲磁控溅射电源是一种专为真空镀膜过程设计的电源设备。以下是对该电源系列的一些详细介绍和特点归纳：

　　基本介绍：

　　双极脉冲磁控溅射电源主要用于中频孪生靶磁控溅射金属或非金属材料，特别适合于反应磁控溅射。

　　它通过采用先进的电流型开关电源技术和PWM脉宽调制技术，结合进口IGBT或MOSFET作为功率开关器件，实现了高效、稳定的电源输出。

　　主要特点：

　　高效能：采用中频溅射电源技术，提高了溅射速率和基片温度控制，使得镀膜过程更加高效。

　　稳定性：通过先进的DSP控制系统，保证了镀膜工艺的重复性，并且具有抑制靶材弧光放电及抗短路功能。

　　调节性：主要参数可大范围调节，方便用户根据具体需求进行调整。

　　清洁性：双极脉冲设计使得在溅射过程中，靶材表面能够得到有效的清洁，减少了靶材中毒和异常放电的可能性。

　　自动化：提供光纤接口和RS485接口扩展功能，方便实现自动化控制。

　　型号与规格：

　　双极脉冲磁控溅射电源提供了多种型号的电源设备，功率从1kW到120kW不等，适用于不同规模和需求的真空镀膜设备。

　　每个型号都详细列出了功率、最大工作电流、外形尺寸、冷却方式、空载电压和工作电压等关键参数，方便用户选择和配置。

　　应用优势：

　　双极脉冲磁控溅射电源能增加离化率，减少电荷积累引起的异常放电，预防靶表面中毒现象。

　　它特别适用于反应膜层环境的使用，并且已被广泛应用于日常生活中的各个领域，如半导体制造、光学镀膜、装饰镀膜等。

　　安全性与可靠性：

　　该系列电源设备采用严格的生产工艺和完善的质量控制体系，保证了产品的安全性和可靠性。

　　同时，其体积小、重量轻、功能全、性能稳定可靠，方便用户进行安装、调试和维护。

　　综上所述，双极脉冲磁控溅射电源凭借其高效能、稳定性、调节性、清洁性和自动化等特点，成为真空镀膜领域的重要设备之一。

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