作者：深圳市jnh官网电气有限公司
时间：2024-06-05
磁控溅射镀膜是一种镀膜技术，具体来说，它是将涂层材料作为靶阴极，利用氩离子轰击靶材，产生阴极溅射，把靶材原子溅射到工件上形成沉积层的一种镀膜技术。在这个过程中，涂层材料一直保持固态，不形成熔池。
磁控溅射镀膜技术具有广泛的应用领域，包括但不限于微电子领域、装饰领域、机械加工行业、医疗领域和光学领域等。在微电子领域，它可以作为非热式镀膜技术，用于制备各种电子元件和半导体器件的薄膜材料，提高电子产品的性能和可靠性。在装饰领域，它可以制备各种全反射膜及半透明膜等，提高产品的外观质量和耐久性。在机械加工行业，它可以制备表面功能膜、超硬膜、自润滑薄膜等，提高材料的表面性能。在医疗领域，它可以制备医疗制品的表面涂层，提高医疗制品的性能和可靠性。在光学领域，它可以制备光学薄膜，如增透膜、反射膜、滤光片等。
磁控溅射镀膜的过程是在真空环境下进行的，首先将待镀膜产品和镀膜材料放置于磁控溅射镀膜机内部的正负极两面，然后抽空空气并加入气体，在电极之间加入电压，使磁场发生作用。位于负极的镀膜材质在整个作用下溅射出溅射原子，溅射原子覆盖于基层的表面之上形成沉积，最终成为特定的膜。
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