作者：深圳市jnh官网电气有限公司
时间：2024-05-30
PVD真空镀膜机(Physical Vapor Deposition，物理气相沉积)的原理基于在真空环境下，利用物理方法将固体材料(称为靶材)转化为气态原子、分子或离子，然后这些气态物质沉积在基底(待镀膜的材料)上，形成一层薄膜。这个过程通常包括以下步骤：
真空环境：首先，需要将镀膜室抽成真空状态，以消除气体分子对镀膜过程的影响。真空度的高低直接影响镀膜的质量和性能。
靶材加热：在真空环境下，通过加热或其他物理方法(如溅射、离子束轰击等)使靶材表面的原子或分子获得足够的能量而脱离靶材表面，形成气态物质。
气态物质运输：气态物质在真空中扩散并输运到基底表面。这个过程中，气态物质的密度、温度和压力等因素会影响其运输效率和沉积效果。
沉积成膜：气态物质在基底表面沉积并逐渐形成一层薄膜。这个过程中，薄膜的厚度、均匀性和结构等特性受到多种因素的影响，如靶材的种类、基底的性质、沉积时间等。
PVD真空镀膜技术具有许多优点，如膜层与基底的结合力强、膜层硬度高、耐磨性和耐腐蚀性好等。因此，它被广泛应用于各种领域，如光学、电子、装饰、航空航天等。常见的PVD镀膜技术包括真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜等。
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