作者：深圳市jnh官网电气有限公司
时间：2022-11-16
真空镀膜工艺应用的广泛，作用也很强大，但是少了磁控溅射等各种靶材的助力，真空镀膜再厉害也是空有满腔抱负而无处施展。
1、靶材是什么？
磁控溅射靶材是一种用溅射沉积或薄膜沉积技术制造薄膜的材料。大多数溅射靶材料是金属元素或合金，尽管也有一些陶瓷靶材可以为各种工具制造硬化的薄涂层。
2、溅射靶材的大小
最小的靶标直径不到1英寸（2.5厘米），而最大的矩形靶标的长度远超过1码（0.9米）。一些溅射设备需要更大的溅射靶。
3、溅射靶材形状的多样性
溅射系统的设计，即进行薄膜沉积过程的机器，已经变得更加多样和具体。比如长圆柱体靶材，能提供额外的好处，包括更快的沉积速度、更少的热损伤和增加的表面积，从而带来更大的整体效用。
4、溅射靶材应用领域
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