作者：深圳市jnh官网电气有限公司
时间：2023-10-25
HIPIMS电源属于高功率脉冲磁控溅射电源的一种，通过降低占空比到10%，在相同功率情况下，可以使得磁控溅射峰值电流大幅度的增加。在镀膜工艺中，往往希望得到高的峰值电流和靶电压，但这两者往往是矛盾的，需要在工艺中综合考虑。HIPIMS电源可调参数多，即使在相同占空比下，针对不同靶材，其脉冲宽度，占空比，靶电压与峰值电流都会出现不同的特性，增加工艺控制手段的同时，也增加了优化难度。随着靶电压的增加，峰值电流密度也会增加，但是在不同电压段，峰值电流变化趋势也不同。在长脉宽下，金属放电进入自持放电模式，会降低溅射速度，但可以增加离子种类和数量，需要根据工艺要求择优选择。
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