作者：深圳市jnh官网电气有限公司
时间：2023-09-25
伴随着磁控溅射技术的发展，磁控溅射电源也经历了几个发展阶段，现在，中频磁控溅射电源已成为新的磁控溅射设备的首选电源，电源采用高频逆变开关电源技术制造，可以更精准地控制膜层厚度，镀膜过程中工作更加稳定，并具有较好的恒定特性。目前，中频磁控溅射电源常用的工作模式是恒流、恒功率模式，较少采用的是恒压模式，另外，中频磁控溅射电源必须严格控制磁控溅射过程中靶表面的打火次数和每次打火的能量，以确保产品膜层致密、光洁度好。要特别注意的是，尽量减少打火瞬间造成的宏观靶材粒子数量，它们会降低膜层的致密性和光洁度，严重时可能会造成脱膜。
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