作者：深圳市jnh官网电气有限公司
时间：2022-04-07
PVD镀膜中会用中频磁控溅射电源、单极性磁控溅射电源等各种真空镀膜电源。
PVD镀膜的技术特点：
（1）利用磁控溅射电源，PVD 膜层能直接镀在不锈钢以及硬质合金上，对比较软的锌合金、铜、铁等压铸件应先进行化学电镀铬，然后才适合镀 PVD，但是水镀后做 PVD 容易起泡，不良率较高；
（2）典型的 PVD 涂层加工温度在250 ℃—450 ℃之间；
（3）涂层种类和厚度决定工艺时间，一般工艺时间为 3~6 小时；
（4）PVD 镀膜膜层的厚度为微米级，厚度较薄，一般为 0.3μm～5μm，其中装饰镀膜膜层的厚度一般为0.3μm~1μm，因此可以在几乎不影响工件原来尺寸的情况下提高工件表面的各种物理性能和化学性能，并能够维持工件尺寸基本不变，镀后不须再加工；
（5）PVD 技术不仅提高了镀膜与基体材料的结合强度，涂层成分也由第一代的 TiN 发展为TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta－C等多元复合涂层，形成不同的颜色的表面效果。
（6）目前能够做出的膜层的颜色有深金黄色，浅金黄色，咖啡色，古铜色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通过控制镀膜过程中的相关参数，可以控制镀出的颜色；镀膜结束后可以用相关的仪器对颜色值进行测量，使颜色得以量化，以确定所镀出的颜色是否满足要求。
一个好的镀膜效果离不开一台好的设备，当然也需要匹配合适的电源，我司电源在稳定性和产品亮度、灭弧功能上发挥了极大的作用，目前自行研发的电源有中频磁控溅射电源、直流磁控溅射电源、双极脉冲偏压电源、离子源电源、弧电源，欢迎大家的了解采购，来电可咨询。
