作者：深圳市jnh官网电气有限公司
时间：2023-04-14
真空镀膜技术是一种重要的工业应用技术，可以将一些金属材料通过蒸发、溅射等方法，在基片上形成高质量的薄膜。而在真空镀膜过程中，电源是关键因素之一，它提供了能量，使得材料被加热、蒸发或溅射，从而形成薄膜。
早在19世纪末20世纪初，人们开始探索真空技术，并尝试将其应用于薄膜制备中。当时的真空泵、真空规等设备虽然已经存在，但是没有专门用于镀膜的电源装置。因此，早期的一些真空镀膜实验大多采用手动操作，通过火焰或电弧的方式加热材料，制备薄膜。
直到20世纪20年代，真空镀膜电源才开始得到重视。1927年，美国普林斯顿大学的爱迪生研究所的C.H.基尔帕特里克和A.L.胡珀发明了第一台真空镀膜电源，这台电源使用了高压变压器和高压整流器，使得电流变成了直流，并控制了材料的加热和蒸发过程，大大提高了薄膜制备的效率和质量。
此后，随着真空技术和电子技术的不断进步，真空镀膜电源也不断发展和完善，不同类型的电源相继诞生，例如中频电源、射频电源、脉冲电源等，使得真空镀膜技术得到广泛应用，成为重要的工业制备技术之一。
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