真空镀膜技术是一种重要的表面处理工艺，可对金属、玻璃、陶瓷等材料进行各种方式的表面处理，得到高硬度、高附着力、高韧性、耐腐蚀和耐磨损性等各种要求的表面。

真空镀膜技术具有以下优势：

1)真空度高，使各种材料在镀膜过程中不会产生污染，对环境保护起到了重要作用。

2)镀膜工艺成熟，生产效率高，所用设备价格低。

3)可对表面进行精细加工，如抛光、氧化、电镀等。

4)可进行镀覆多种金属或合金，如：镀铜、镀钛等等。

5)镀膜过程可在密闭空间进行，易于控制。

6)镀膜过程中可控制靶材成分，得到不同成分的镀膜材料。

一、镀前准备

1.材料表面清洁：一般可采用清洗、吹干或喷湿等方法将表面的油脂、灰尘等除去，再用水或酒精清洗，以清除指纹痕迹。

2.检查工件：对需要镀覆的工件，在镀膜前应仔细检查其尺寸是否符合要求，有无变形及气孔。如发现缺陷应及时处理。

3.表面预处理：真空镀膜前需对工件进行表面预处理，以保证其镀覆效果。具体方法有：

（1）化学处理：用化学方法如酸洗、碱洗等方法对工件进行表面预处理。

（2）机械加工：利用机械方法将工件上的毛刺、沟槽、裂纹等缺陷消除或磨平。

（3）抛光：利用抛光方法使工件表面变得平滑。

4.靶材制备是真空镀膜工艺中的关键工序，其质量直接影响到镀膜的效果，因此需要格外注意。

二、镀膜

1.靶材制备：一般采用直流电弧离子溅射法，溅射靶材纯度应大于99.99%，靶材的直径小于5 mm，溅射时应保持气压稳定在0.5~0.6 Pa。溅射功率应保持在15~25W/cm2,镀膜温度以200℃~250℃为宜。

2.镀膜：真空镀膜一般分为：真空蒸发、离子镀、磁控溅射、喷雾蒸镀、反应溅射等几种方法。常用的真空蒸发方法有：真空蒸发（又称气体蒸镀，包括电弧离子蒸镀和磁控溅射）、反应离子镀膜。常用的离子镀膜方法有：化学气相沉积法（CVD）和物理气相沉积法（PVD）。其中 CVD和 PVD是主要的两种镀膜方法。

 CVD是在真空中进行的蒸发、溅射，常用于金属与非金属材料的镀覆； PVD是在直流或射频下进行的蒸发，常用于金属与非金属材料的镀覆。两种镀膜方法都可获得具有特定结构的薄膜，但 CVD工艺成本低、生产效率高，应用较多。

三、清洗

清洗是保证镀膜质量的重要环节，也是保证真空镀膜生产效率的重要环节。清洗可以采用溶剂清洗、碱性溶液清洗、超声波清洗等方法。常用的溶剂有：丙酮、甲苯、乙醚、乙酸乙酯等。

1)丙酮：对铝、钛等材料有很强的亲和力，但对其他金属如铜等几乎无亲和力。丙酮可用于所有金属表面的清洁，但不能用于非氧化膜表面。丙酮是一种容易挥发的液体，也是一种有机溶剂，使用时应注意安全，以防着火。

2)甲苯：在有机溶剂中能溶解脂肪烃和芳香烃，但对铝、钛等金属不起作用。

3)乙醚和乙烷：对铜有亲和力，而对铝无亲和力。这是因为它们不能溶解玻璃和陶瓷，并且它们易挥发。在清洗前将容器浸泡在溶剂中至少2小时，以增强它们对铝的亲和力。同时在清洗时应注意容器的密封。

4)酸性溶液：用酸（如乙酸）来清洗玻璃和陶瓷表面可达到理想效果，但只能用于玻璃和陶瓷表面。

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