提高镀膜效率、降低成本
能有效抑制或消除靶材表面的弧光放电现象
提高膜层质量，增加沉积薄膜的致密性
提供更加稳定的等离子体环境，能提高其溅射速率和沉积效率
金属、合金、氧化物、氮化物等材料的沉积
| 项目 | 型号 | |||||||
| PM-100W | PM-500W | PM-10/A PM-10/B | PM-20/A PM-20/B | PM-30/A PM-30/B | PM-40/A PM-40/B | PM-60/A PM-60/B | PM-80/A PM-80/B | |
| 输入电压 | 24Vdc | 220V ±10% ，50～60 Hz | 三相交流380V ±10%，50～60 Hz | |||||
| 输出功率 | 100W | 500W | 10KW | 20KW | 30KW | 40KW | 60KW | 80KW |
| A款:工作电流 | 1-100mA | 1A | 2A-10A | 3A-20A | 4A-30A | 5A-40A | 8A-60A | 10A-80A |
| A款:工作电压 | 10V～1000V | 10V～500V | 100V～1000V（空载电压＞1000V） | |||||
| B款:工作电流 | - | - | 2A-12.5A | 3A-25A | 4A-37.5A | 5A-50A | 8A-75A | 10A-100A |
| B款:工作电压 | - | - | 100V～800V（空载电压＞800V） | |||||
| 空载电压 | ＞1000V | ＞500V | - | |||||
| 工作方式 | 恒压、恒流、恒功率 | 恒压、恒流、恒功率 | ||||||
| 输出频率 | - | 40kHz～80kHz | 20kHz～350kHz（常规频率：20kHz～80kHz） | |||||
| 占空比 | - | 10%-94% | 10%-80%（最大94%） | |||||
| 调节精度 | ≤1% | ≤1% | ||||||
| 工作效率 | ≥90% | ≥90% | ||||||
| 响应时间 | ＜500ns | ＜500ns | ||||||
| 通讯方式 | RS485 | RS485、光纤等通讯端口,MODBUS通讯协议 | ||||||
| 冷却方式 | - | 风冷 | 风冷+水冷 | |||||
| 尺寸(mm) | 260(D)×160(W)×75(H) | 390(D)×425(W)×142(H) | 710(D)×435(W)×225(H) 810(D)×435(W)×280(H) | |||||
| 安全防护 | 过流、过压、短路、过热保护，接地保护，漏电保护 | |||||||
