作者:深圳市jnh官网电气有限公司
时间:2022-04-27
离子镀膜技术可能大家并不陌生,但是具体有哪些种类具体又如何细分想必并不是太清楚,小编今天带您走进jnh官网离子镀膜技术中的多弧离子镀。
多弧离子镀是把真空弧光放电用于蒸发源的镀膜技术,也称真空弧光蒸镀法。蒸镀时阴极表面出现许多非常小的弧光辉点,把这种技术实用化的美国 Muli-Arc公司的译名译为多弧,所以一般称为多弧法。如果在工作室中通入所需的反应气体,则能生成膜层致密均匀、附着性能优良的化合物膜层。多弧离子镀可设置多个弧源,为了获得好的绕射性,可独立控制各个源。这种设备可用来制作多层结构膜、合金膜、化合物膜。
多弧离子镀有以下的特点∶
1、从阴极直接产生等离子体,不用熔池,弧源可任意方位、多源布置;
2、设备结构较简单,不需要工作气体,也不需要辅助的离子化手段,弧源既是阴极材料的蒸发源,又是离子源,而在进行反应性沉积时仅有反应气体存在,气氛的控制仅是简单的全压强控制;
3、离化率高,一般可达60%~80%,沉积速率高;
4、入射离子能量高,沉积膜的质量和附着性能好;
5、采用低电压电源工作,较为安全。多弧离子镀的应用面广,实用性强,特别在高速钢刀具和不锈钢板表面上镀覆 TiN 膜层等方面发展最为迅速。
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